ICP-AES光譜儀分析結果的誤差來源于哪些方面

　　為什么ICP-AES光譜儀定量分析存在準確度的問題，這是因為定量分析是一種測量，而作為任何測骨，都一定帶有誤差。準確度和誤差實際上是對同一個問題的兩種說法，誤差，即準確度高，誤差，即準確度低。表示分析誤差的方法有兩種：一是誤差；二是相對誤差。我們從實際例子即能區分兩種誤差，例如，高速鋼中鎢或者不銹鋼中鉻含量都在18%左右，爐前分析的誤差約是士0.20%，誤差就是±0.20%，通常以o表示，相對誤差則為（±0/CGone)×100%，其中Come為含量。因此上例的相對誤差按（±0.2/18）×100%，約為±1.1%，如分析碳素鋼中錳含量范圍0.17%~0.37%，分析的誤差士0.005%，相對誤差±1.35%。再如分析某元素的含量0.003%，誤差土0.0005%，相對誤差16.6%。這些例子說明光譜分析儀的一個固有規律，即相對誤差隨含量降低而增。

　　分析結果與實際含量之間的偏離就是誤差。分析結果的誤差可以來源于幾個方面，以光譜分析而論，可以來源標準樣品及分析樣品的成分分布的不均勻，以及標準樣品及分析樣品性質不一致，也可以來源光源激發的不穩定，也可以來源于分光系統、出射狹縫的偏離。正常操作和儀器工作狀態下引起的誤差原因，總起來可歸為兩類：系統誤差和偶然誤差（或稱隨機誤差）。兩者如何區分?系統誤差偏向一方的，或者是經常偏高，或者經常偏低，上面提到的標準樣品和分析樣品的性質不一致，導致分析結果具有系統誤差，采用一致性質的樣品，即能消除這類誤差。偶然誤差不是偏向一方的，正的誤差和負的誤差有同樣出現的機會。